为了实现低成本的高精度光学加工，德国汉诺威大学的郑蕾博士所在研究团队提出了一种以UV-LED为光源，通过标准光学元件和显微物镜将图案转移到基板上的投影光刻方法——UV-LED显微镜投影光刻（MPP），并基于此开发了一套简单、低成本、易操作的MPP装置（如图1a所示），实现快速且高分辨率的2D微纳光学器件加工。

图1：MPP装置示意图（a）和完整的加工工序图（b）

为了能够更方便地制备加工所需的模板，研究人员也开发了一套涵盖了从结构设计及打印，铬掩模版制备到MPP加工光学器件的完整工序（示意图如图1b所示）。在制备铬掩模版时，研究人员对比了分别用普通非球面透镜和Tessar镜头将透明薄片上结构图案转移至空白铬掩模版后的精度和质量，并对这个工序的光学系统进行优化。利用制备好的掩模版，研究人员可利用MPP加工最终的光学结构。

为了探索该方法的高精度加工性能，研究人员还加工了不同特征尺寸的单线结构，并实现了低于100纳米的特征尺寸。

图3：不同厂商，不同NA值的显微物镜加工光栅结构

同时，研究人员也采用了不同价位/厂商，不同NA值的物镜来加工光栅结构，以验证该方法在高精度微纳加工中的稳定性和可靠性。