WitDisplay消息，4月16日，晶洲装备自主研发生产的国产首台氢氟酸清洗(HF Cleaner)设备在客户端被吊装至对接平台，随即推入维信诺旗下国显光电5.5代OLED产线厂房，顺利搬入。在此之前，HF Cleaner生产厂商都是日韩厂商。
氢氟酸清洗作为显示制程中的关键环节，其清洗效果直接影响到器件结构的最终性能、效率与稳定性，关系到最终产品的良品率。氢氟酸清洗不仅要去除有源层表面的杂质而且要使表面钝化，从而减少界面杂质的吸附能力，对表面的洁净度要求非常严格，理论上不允许存在任何颗粒、金属离子、有机粘附、水汽以及氧化层，对表面要求具备原子级的平坦度，保障后制程的工艺可靠性。
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